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Trimethoxysilan CAS: 2487-90-3

Trimethoxysilan ist ein Silan-Haftvermittler mit der chemischen Formel C₃H₁₀O₃Si, der drei an ein Siliciumatom gebundene Methoxygruppen enthält. Es handelt sich um eine farblose Flüssigkeit, die in Gegenwart von Feuchtigkeit hydrolysiert und dabei Silanolgruppen bildet. Diese können mit verschiedenen Substraten reagieren und so die Haftung und Kompatibilität in materialwissenschaftlichen Anwendungen verbessern.


Produktdetails

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Anwendung und Wirkung:

Trimethoxysilan dient als vielseitiger Oberflächenmodifikator und Vernetzungsmittel bei der Herstellung von Klebstoffen, Dichtstoffen, Beschichtungen und Verbundwerkstoffen. Auf Oberflächen aufgebracht, bildet es über Silanolgruppen starke Bindungen mit Substraten und verbessert so die Haftfestigkeit, die chemische Beständigkeit und die Dauerhaftigkeit von Beschichtungen und Grenzflächen. Diese Eigenschaft ist entscheidend für die Verbesserung der Leistungsfähigkeit und Lebensdauer von Materialien im Bauwesen, der Automobilindustrie, der Luft- und Raumfahrt sowie in der Industrie. In der Nanotechnologie wird Trimethoxysilan zur Funktionalisierung von Nanopartikeln und Nanofüllstoffen eingesetzt, um deren Dispersion und Grenzflächenwechselwirkungen in Polymermatrices zu verbessern. Durch die Modifizierung der Oberflächeneigenschaften von Nanopartikeln ermöglicht es eine gleichmäßige Dispersion und Verstärkung in Verbundwerkstoffen, was zu verbesserten mechanischen Eigenschaften, thermischer Stabilität und elektrischer Leitfähigkeit in modernen Werkstoffen führt. Darüber hinaus spielt Trimethoxysilan eine Schlüsselrolle bei der Synthese von organisch-anorganischen Hybridmaterialien wie silikatbasierten Nanokompositen und Sol-Gel-Beschichtungen. Seine Fähigkeit, kovalente Bindungen mit organischen und anorganischen Komponenten einzugehen, ermöglicht die Herstellung von Materialien mit maßgeschneiderten Eigenschaften, darunter erhöhte Härte, Flexibilität und Beständigkeit gegenüber Umwelteinflüssen. In der Elektronikindustrie wird Trimethoxysilan als Vorläufer für die Abscheidung dünner Siliziumdioxidschichten (SiO₂) mittels chemischer Gasphasenabscheidung (CVD) eingesetzt. Diese SiO₂-Schichten dienen als dielektrische Schichten in Halbleiterbauelementen, als Isolierschichten in der Mikroelektronik und als Schutzbeschichtungen auf optischen Komponenten und tragen so zur Miniaturisierung, Zuverlässigkeit und Leistungsfähigkeit elektronischer Geräte bei. Darüber hinaus wird Trimethoxysilan zur Oberflächenmodifizierung von Glas, Keramik, Metallen und Textilien verwendet, um hydrophobe, oleophobe oder korrosionsbeständige Eigenschaften zu erzielen. Durch die Bildung selbstorganisierter Monoschichten auf Oberflächen verbessert es die Wasserabweisung, die Fleckenbeständigkeit und die Oberflächenenergie und eignet sich daher für Anwendungen in architektonischen Beschichtungen, Textilveredelungen und im Korrosionsschutz in maritimen Umgebungen. Insgesamt beweist Trimethoxysilan seine Vielseitigkeit und Nützlichkeit als multifunktionale Verbindung mit vielfältigen Anwendungsmöglichkeiten in der Oberflächentechnik, der Herstellung von Nanokompositen, der Elektronikfertigung, der Materialherstellung und dem Oberflächenschutz und trägt so zu Fortschritten in verschiedenen Branchen und Technologien bei.

Produktmuster:

L-Arginin1
L-Arginin2

Produktverpackung:

L-Arginin3

Weitere Informationen:

Zusammensetzung C3H10O3Si
Test 99%
Aussehen weißes Pulver
CAS-Nr. 2487-90-3
Verpackung Klein und Groß
Haltbarkeit 2 Jahre
Lagerung Kühl und trocken lagern.
Zertifizierung ISO.

 


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